次世代ディスプレイとして注目されるMicro-LEDは、高輝度・高色域・高精細といった特長を持つ一方、チップの微細化に伴い、従来のLEDチップ測定やディスプレイ評価だけでは対応しにくい新たな光学評価が求められています。
本資料では、Micro-LEDの開発・設計・量産工程における代表的な光学測定・評価事例を紹介しています。
ウェハーレベルでのPL／EL検査をはじめ、マストランスファ後のセル評価、サブピクセル単位の輝度・色度ばらつき、セル面内のムラ、色変換方式における漏れ光・混色など、Micro-LEDの開発・製造工程で重要となる評価について、具体的な測定事例を交えて解説しています。
また、2D分光放射計を用いることで、従来のスポット測定では多くの測定点を必要としていた面内の輝度・色度の均一性評価に加え、多点の分光スペクトル、ピーク波長、主波長などを2次元で評価する測定手法についても紹介しています。

本資料で紹介している主な内容
– PL検査（UV照射）による成膜ムラ・表面状態の評価
– EL検査によるMicro-LEDダイの評価
– サブピクセル単位での輝度・色度・分光特性のばらつき評価
– セル面内のユニフォミティ評価
– 色変換方式における漏れ光・混色解析
– サブピクセル面内のザラつき評価
– 分光スペクトル・ピーク波長・主波長・刺激純度の評価
– Micro-LEDの光学評価に関連する用語解説

Micro-LEDディスプレイの開発に携わる方や、Micro-LEDの測定・評価方法を検討されている方におすすめの技術資料です。
ウェハー・ダイ段階の評価から、セル・モジュール化後の品質評価まで、Micro-LEDの光学測定を検討する際の参考資料としてご活用いただけます。

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